Hellma-Materials的半成品產品涵蓋微光刻、光學、激光技術和輻射探測等領域，而IVIROptics的鍺和硅則用于紅外光學（IR光學），特別是用于制造熱成像相機、夜視設備和光譜系統的鏡頭和窗戶。

　　鍺因其在紅外光譜范圍（2至14微米）的高透射率，非常適合這些應用。硅因其良好的機械性能和高折射率，常用于紅外光學中的透鏡和鏡面。這兩種材料都有各種形狀和尺寸，以滿足不同應用的需求。

　　高純度的合成晶體——德國制造：我們種植純度的人造晶體，適用于光學、半導體、輻射檢測和安全行業的應用。我們在熔體受控結晶方面的專業知識保證產品質量高。

　　Hellma（德國）的光學材料核心由旗下Hellma-Materials（晶體/玻璃）與HellmaAnalytics（分析用石英/玻璃）兩大板塊構成，以高純度合成晶體、特種玻璃、石英為主，覆蓋紫外到紅外全波段，廣泛用于光刻、激光、光譜、醫療等領域。

　　Hellma光學材料以氟化鈣（CaF?）晶體為代表，憑借跨紫外-可見-紅外波段的高寬帶透射率、低折射率、低光譜色散、出色的激光耐久性和抗輻照能力，成為精密光學、半導體制造、天文觀測、激光技術及科研醫療等領域的核心材料。

　　氟化鎂（MgF2HellmaMaterials的一種經過驗證的光學材料

　　寬頻傳輸：在紫外、可見性和紅外頻段的透射率。

　　低色散：大限度地減少色差。

　　對電離輻射的高抵抗：可用于太空。

　　低非線性折射率：非常適合高功率激光應用。

　　對多種化學蝕刻劑具有抗性，適合高要求的應用。

　　核心性能優勢

　　寬透射波段

　　覆蓋深紫外（130nm）至紅外（8μm，部分資料顯示可達9μm甚至10μm），滿足真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、可見光及紅外（IR）等多波段需求。

　　應用場景：半導體光刻（193nm、248nm）、紫外顯微鏡、紅外傳感器、熱像儀鏡頭等。

　　低折射率與低色散

　　折射率（nd）為1.43384，阿貝數（vd）達95.23，顯著減少色差，提升成像質量。

　　應用場景：天文望遠鏡、高清變焦鏡頭、顯微鏡等色校正光學系統。

　　激光耐久性

　　對157nm、193nm、248nm等準分子激光波長具有優異耐受性，適用于光刻激光光學器件和光束傳輸系統，延長組件壽命。

　　業務架構：Hellma旗下Hellma-Materials專注晶體/光學材料定制，HellmaAnalytics聚焦分析用石英/玻璃組件，另有系統集成與分銷業務。

　　技術亮點：德國耶拿自有晶體生長產線，可定制大尺寸單晶（如CaF?直徑440mm），嚴控折射率均勻性與應力雙折射；石英/玻璃組件支持高精度拋光、鍍膜與尺寸公差（±0.01mm）。

　　認證與合規：符合ISO9001、ISO50001，材料適配SEMI、RoHS、REACH，部分產品通過FDA/USPClassVI醫療級認證

　　應用場景：高功率激光窗口、透鏡、工業激光加工等。

　　抗輻照與環境適應性

　　抵抗高能粒子輻射，機械強度高且抗潮解，大氣下使用溫度達600℃，真空干燥時可達800℃。

　　應用場景：航空航天、核能設備、深海探測等環境。

　　質量控制與認證

　　產品通過ISO9001/14001質量管理體系認證及DAkkS認證，符合DINENISO/IEC17025標準要求。

　　每一批次產品均經過嚴格的光學性能、機械性能及環境穩定性檢測，確保交付品質的一致性與可靠性。